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1200度實驗室坩堝爐(井式爐)主要用於高校、科研院所、工礦企業煆燒真空或惰性氣體中的高純度化合物,退火或擴散半導體晶片,也可以用於烘燒或燒結陶瓷材料等,主要用於熔化熔點不太高的有色金屬,如銅、鋁及其合金等。
1200度實驗室坩堝爐
溫度控製采用引進智能型專家PID自整定控製調節方式,控製精度高(±1℃),並可顯示理論值和實測值,控製係統具有熱處理過程的溫度顯示和溫度曲線記錄功能。可自動控製加熱溫度,具有直觀、方便和先進性。
1200度實驗室坩堝爐
有效容積(L) | 功率(KW) |
3.4 | 2 |
8 | 4 |
16 | 25 |
12 | 6 |
27 | 9 |
36 | 15 |
96 | 27 |
125 | 35 |
216 | 50 |
343 | 60 |
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