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1200度實驗室坩堝爐

簡要描述:

1200度實驗室坩堝爐(井式爐)主要用於高校、科研院所、工礦企業煆燒真空或惰性氣體中的高純度化合物,退火或擴散半導體晶片,也可以用於烘燒或燒結陶瓷材料等,主要用於熔化熔點不太高的有色金屬,如銅、鋁及其合金等。

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1200度實驗室坩堝爐

1、井式爐用途:適用於杆類,長軸類零件的熱處理。
2、井式爐主要參數:
1)       爐膛尺寸:根據客戶要求定製
2)       功率:按實際功率計算
3)       額定溫度:≤1200℃
4)       控溫精度:±1℃
3、結構:主要由爐體、節能型全纖維耐火爐襯、高溫高輻射電熱元件、智能PID溫度程序控製係統等部分組成。
1、爐體:主要采用優質型鋼構架、鋼板密焊而成,保證爐子的密封性能及足夠的剛強度。
2、節能型高溫氧化鋁陶瓷纖維爐膛:
爐襯耐火層設計為全纖維耐火折疊模塊結構。該結構型式爐襯是在目前大中型節能爐窯中應用比較廣泛。爐膛內采用耐高溫、不變形、高壓縮好的纖維模塊,模塊使用壽命長。並具有低導熱,低熱容量,優良的熱穩定性
3、電熱元件:
優質HRE合金電阻絲,布置在爐膛的四周。
電熱元件分布,從上到下均勻分布在爐膛內。
4、爐蓋:可根據用戶需要定製密封可靠。
5、PID智能溫控係統

溫度控製采用引進智能型專家PID自整定控製調節方式,控製精度高(±1℃),並可顯示理論值和實測值,控製係統具有熱處理過程的溫度顯示和溫度曲線記錄功能。可自動控製加熱溫度,具有直觀、方便和先進性。

1200度實驗室坩堝爐

有效容積(L)

功率(KW)

3.4

2

8

4

16

25

12

6

27

9

36

15

96

27

125

35

216

50

343

60


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